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一种制备碳化硅/碳,碳化硼/碳功能梯度材料的方法

申请号:CN01100449.5

申请日:2001-01-12

公开(公告)号:CN1364745

公开(公告)日:2002-08-21

主分类号:C04B35/56

分类号:C04B35/56;C04B35/64

颁证日:

优先权:

申请(专利权)人:北京科技大学

地址:100083北京市海淀学院路30号

发明(设计)人: 葛昌纯;曹文斌;沈卫平;李江涛;武安华

国际公布:

进入国家日期:

专利代理机构:北京科大华谊专利代理事务所

代理人: 刘月娥

内容简介

本发明涉及一种通过成分分布设计和热压烧结方法制备SiC/C和B4C/C功能梯度材料的方法。特征在于,向低原子序数陶瓷-碳块体梯度材料原料中加入烧结助剂,对于SiC/C FGM,采用活性碳粉和B粉作SiC的烧结助剂,SiC的烧结助剂B+C含量应在1-10wt%(重量百分比),碳材料添加剂B的含量应在1-10wt%。B4C/C FGM中加入SiC以提高性能。SiC/C FGM采用线性成分分布设计,B4C/C FGM采用S型成分分布设计。在氩气气氛中,压力为15-50MPa、温度为1900℃-2200℃,保温1-3小时。优点在于,具有优良的耐高温等离子体冲刷,抗热冲击和耐化学溅射性能。

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所需耐材币:0

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