第4期
低稀释比玻璃熔片X射线荧光光谱法分析高纯硅石中主次成分
作者:宋霞,杨双花,翟智卫
作者机构:洛阳理工学院 环境工程与化学系河南洛阳 471023
分类号:
卷号:
期号 : 2011 年, 第4期
关键词: 低稀释比,玻璃熔片法,X射线荧光光谱法,高纯硅石,系列标准样品
内容简介

摘要:用市售硅石、硅砖国家标准物质和SiO2基准试剂配制出一系列适当含量范围的标准样品,采用低稀释比玻璃熔片法,研究了高纯硅石中主次成分的X射线荧光光谱分析方法,并且对熔剂种类、稀释比、熔样条件进行了系统研究。国家硅石标准物质的测定值与标准值相一致,应用于实际样品的测定并和化学法比较,分析结果也基本一致。该方法操作简单、快速,结果准确,精密度好,具有良好的实用性。

关键词低稀释比,玻璃熔片法,X射线荧光光谱法,高纯硅石,系列标准样品

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