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CVD合成石英玻璃的结构均匀性研究

作者:隋梅,孙元成,宋学富,王宏杰

作者单位:中国建筑材料科学研究总院

会议录名称:2010全国玻璃技术交流研讨会

出版年:2010-10-16

起页:229-234

止页:

总页数:6

馆藏号:

分类号:TQ171.731

语种:中文

会议名称:2010全国玻璃技术交流研讨会

会议地点:中国河北沙河

会议时间:2010-10-16

会议主办者:中国硅酸盐学会

关键词:石英玻璃;结构均匀性;化学气相沉积;

内容简介

高纯石英玻璃在光学、光通信及惯性导航中的应用要求其具备高的结构均匀性。CVD(化学气相沉积法)合成高纯石英玻璃的工艺条件决定了它具备的结构状态。本文对使用卧式和立式两种工艺合成高纯石英玻璃的结构均匀性进行了研究,通过应力测试和假想温度测试,测得卧式工艺制得玻璃在平行于沉积面方向具有环状不均匀结构,并导致结构应力的环状分布,在垂直于沉积面方向结构均匀;立式工艺制得玻璃在垂直于沉积面方向存在层状结构分布,每层厚度为0.16cm,在平行于沉积面方向结构均匀性好,直径8cm范围内无结构应力。

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