作者：赵万国,张海军,段红娟,王军凯,邓先功,张少伟

作者单位：武汉科技大学省部共建耐火材料与冶金国家重点实验室

会议录名称：第十九届全国高技术陶瓷学术年会

出版年：2016-10-11

起页：44-45

止页：

总页数：2

馆藏号：

分类号：TQ127.2;TB383.3

语种：中文

会议名称：第十九届全国高技术陶瓷学术年会

会议地点：湖北武汉

会议时间：2016-10-11

会议主办者：中国硅酸盐学会特种陶瓷分会

关键词：

内容简介

氮化硅（Si3N4）由于具有优良的机械性能、化学性能和物理性能而被广泛应用于化工、冶金及航天等领域。本文以聚乙二醇（PEG）为表面活性剂,以氨水（NH3稨2O）为沉淀剂,采用沉淀法将氧化钇（Y2O3）纳米颗粒催化剂原位沉积于Si粉表面,通过催化氮化的方法制备了Si3N4粉体。研究了催化剂Y2O3的用量及氮化温度对Si3N4合成的影响。采用X射线衍射（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）、透射电子显微镜（TEM）及能谱仪（EDS）对产物的物相组成及显微结构进行了表征。结果表明:1)通过原位沉淀法可以将粒径约100 nm的Y2O3催化剂沉积在Si粉表面;2)当Y2O3纳米颗粒的加入量为3 wt%时,1350℃/2 h催化氮化后所得试样中残余Si含量最小,仅为约1 wt%;3)催化氮化制得的产物中存在着大量的晶须状Si3N4,其直径在40200 nm之间,长度可达几个微米至十几个微米。Si3N4晶须的生长机理主要为气相-气相-固相（VVS）机理。