作者：孙荣国,薛文东,孙加林,洪彦若

作者单位：北京科技大学

会议录名称：第十三届全国高技术陶瓷学术年会

出版年：2004-10-14

起页：178

止页：

总页数：1

馆藏号：

分类号：TQ175.7;TF57

语种：中文

会议名称：第十三届全国高技术陶瓷学术年会

会议地点：辽宁大连

会议时间：2004-10-14

会议主办者：中国硅酸盐学会特种陶瓷分会

关键词：喷补料;氮化硅;抗侵蚀

内容简介

高炉喷补料对于延长高炉的寿命至关重要,喷补料在高炉中的使用条件非常苛刻,而氮化硅材料具有优良的力学性能及较好的抗渣铁侵蚀性能,所以,将其应用到高炉喷补料中开发出新一代喷补料。本文通过静态抗渣实验研究了刚玉-氮化硅高炉喷补料抗渣侵蚀性能,并探讨了渣铁对材料的侵蚀机理。结果表明:Si3N4在渣与材料界面反应形成了致密层,阻碍了渣铁的深入,将Si3N4引入到喷补料中提高材料的抗渣性能;同时发现随着氮化硅的加入量增多,致密层有明显的变化,氮化硅最佳加入量为5-10%。