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Al4SiC4陶瓷在高温还原性气氛中的结构演变及机理研究

作者:郑岐1孙侨阳2于景坤2袁磊2

作者单位:1. 中民驰远实业有限公司2. 东北大学冶金学院

刊名:陶瓷学报

ISSN:2095-784X

出版年:2024-01-25

卷:

期:1

起页:103-108

止页:

分类号:TQ174.1

语种:中文

关键词:Al4SiC4;含碳耐火材料;抗氧化性;还原反应;

内容简介

碳化硅铝是一种良好的含碳耐火材料抗氧化剂。该研究以铝粉、硅粉和碳粉为原料制备出碳化硅铝陶瓷,并将其置于1000℃~1500℃温度范围内的还原气氛中,以模拟碳化硅铝在含碳耐火材料中的实际使用环境并对其性能和反应机理进行了研究。研究结果表明,在还原性气氛下,碳化硅铝在1000℃~1400℃温度范围内先与一氧化碳通过气相反应生成氧化铝、碳化硅、碳及铝硅酸盐玻璃相。当温度升至1500℃时,氧化铝和碳化硅与一氧化碳通过气相反应生成莫来石。上述反应将会在含碳耐火材料表面形成保护膜,阻止含碳耐火材料的氧化,提高了含碳耐火材料的抗氧化性。

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