您的当前位置:首页 > 图书馆 > 中文期刊 > 正文

利用SiO2合成高纯亚微米级SiC粉体的研究进展

作者:叶军1,2岳新艳1,2茹红强1,2张翠萍1,2

作者单位:1. 东北大学材料各向异性与织构教育部重点实验室2. 东北大学材料科学与工程学院

刊名:陶瓷

ISSN:1002-2872

出版年:2023-04-15

卷:

期:4

起页:21-28

止页:

分类号:TQ174.758.12

语种:中文

关键词:碳热还原;SiC粉体;除杂;影响因素;

内容简介

高纯亚微米级SiC粉体是制备SiC陶瓷的重要原料,笔者综述了近20年来利用SiO2制备SiC粉体的新方法、新进展;对SiC微粉在制备过程中的形貌和粒径控制进行讨论,研究了近年来SiC粉体的提纯工艺和影响SiC粉体制备的主要因素;并展望了未来利用SiO2微粉制备高纯亚微米级SiC粉体的研究方向。

无资料下载

所需耐材币:0

相关图书
广告招租